离子缓释填料组合成分中，含有大量的半导体元素和钾、钙、铝、铁、钛等金属化合物。离子缓释填料是一种具有良好导电流通性能的黑灰色优质矿物复合材料。 
电阻率ρ=0.38（试验值），PH值=10， 比重为1.52，降阻率60-90%在之间（土壤电阻率越高，降阻越***），有效期为60年。

离子缓释填料施工工艺有哪些？
     1、离子缓释填料单体施工图
      ①垂直法
      ※人工挖坑
      挖3米深的垂直圆坑或方孔，放入用200毫米的钢管、木板或其它材料做成的模具，周围用湿土夯实，拔出模具可成的竖孔（做成200×200毫米的方孔即刻），然后施用离子缓释填料。 
      ※ 机械打孔
      在岩石地区，可考虑采用机械打孔。根据需要可打深5－12米，200毫米的圆孔，然后施用离子缓释填料；或爆破制裂，压力灌注离子缓释填料。
      ②、水平法
      根据需要和施工条件，挖深0.8－1.2米的水平长坑，其长度按总体设计要求而定，在沟部形成200×200毫米的凹槽，接地体底部用小金属或钢筋头支起，然后施用离子缓释填料。

2、离子缓释填料现场使用方法
     首先按设计要求将接地体布置完毕，然后现场以离子缓释填料/水＝3/2的比例加水，二者可在一个大口容器中搅拌均匀，如有条件用搅拌机，（无条件可在现场选择一平地，上铺铁板，用铁锹搅拌均匀）。要求容器底不见干粉，但也不要太稀，整体成浆糊状后倒入已放好接地体的坑中（切忌不可固化后再放入）待离子缓释填料表面凝固后，在靠近离子缓释填料表层部位回填0.2米厚的细土，然后回填土壤并夯实（注意不要将石头及其它杂质回填）。